टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

टाइटेनियम की खोज

टाइटेनियम की खोज के लिए तीन लोगों के परिचय की आवश्यकता है:

एक। टाइटेनियम की खोज सबसे पहले एक अंग्रेज खनिज विज्ञानी रेवरेंड विलियम ग्रेगोर ने की थी।

बी। मार्टिन हेनरिक क्लैप्रोथ ने इस तत्व को "टाइटेनियम" नाम दिया।

सी। मैथ्यू ए हंटर, एक अमेरिकी रसायनज्ञ, ने टाइटेनियम क्लोराइड को कम किया और इसे 99.9 प्रतिशत की शुद्धता तक शुद्ध किया।

टाइटेनियम संपत्ति

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यउनके स्रोत सामग्री के समान गुण साझा करता है। लगभग 3.4 बिलियन टन के वैश्विक टाइटेनियम भंडार के साथ टाइटेनियम सभी तत्वों में नौवें स्थान पर है। टाइटेनियम एक मूल्यवान सामग्री है, क्योंकि इसकी उच्च शक्ति, अच्छा संक्षारण प्रतिरोध, उच्च गर्मी प्रतिरोध, एयरोस्पेस, ऑटोमोबाइल निर्माण, चिकित्सा और स्वास्थ्य क्षेत्रों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।

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टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य परिभाषा

स्पटरिंग लक्ष्य की परिभाषा को समझने में सरल और आसान: दैनिक जीवन में सामान्य शूटिंग लक्ष्य से "लक्ष्य" में "टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य"। स्पटरिंग डिपोजिशन प्रक्रिया में, कोटिंग सामग्री पर एक इलेक्ट्रॉन या आयन बीम द्वारा बमबारी की जाती है, जैसे एक लक्ष्य मारा जाता है, इसलिए स्पटरिंग प्रक्रिया में प्रयुक्त सामग्री के लिए "स्पटरिंग लक्ष्य" नाम।

धातु टाइटेनियम से टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य तक

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य तैयार करने के दो तरीके हैं: कास्टिंग और पाउडर धातु विज्ञान।

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य की पाउडर धातु विज्ञान प्रक्रिया

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