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Gr5 टाइटेनियम लक्ष्य
2. उच्च शुद्धता;
3. अच्छी बिक्री;
4. अनुरोध पर अनुकूलित किया जा सकता है।
GR5 टाइटेनियम लक्ष्यसामग्री स्पटरिंग स्रोत को संदर्भित करती है जो उपयुक्त प्रक्रिया स्थितियों के तहत मैग्नेट्रोन स्पटरिंग, मल्टी-आर्क आयन प्लेटिंग, या अन्य प्रकार के कोटिंग उपकरण द्वारा सब्सट्रेट पर विभिन्न कार्यात्मक फिल्में बनाती है। स्पटरिंग लक्ष्य व्यापक रूप से सजावट, मोल्ड, कांच, इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, अर्धचालक, चुंबकीय रिकॉर्डिंग, विमान प्रदर्शन, सौर कोशिकाओं और कई अन्य क्षेत्रों में उपयोग किए जाते हैं।
शुद्धता लक्ष्य सामग्री के मुख्य प्रदर्शन सूचकांकों में से एक है क्योंकि लक्ष्य सामग्री की शुद्धता का पतले प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव पड़ता है।
अलग-अलग परिस्थितियों में अलग-अलग अशुद्धता सामग्री के लिए अलग-अलग लक्ष्य सामग्री की अलग-अलग आवश्यकताएं होती हैं।
आमतौर पर, लक्ष्य सामग्री पॉलीक्रिस्टलाइन होती है जिसमें अनाज के आकार माइक्रोन से मिलीमीटर तक होते हैं। उसी लक्ष्य के लिए, महीन दाने वाले लक्ष्य की स्पटरिंग दर मोटे अनाज वाले लक्ष्य की तुलना में तेज़ होती है। छोटे अनाज आकार के अंतर (समान वितरण) के साथ लक्ष्य स्पटरिंग द्वारा जमा की गई पतली फिल्मों में अधिक समान मोटाई वितरण होता है।
टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य आपूर्तिकर्ता
उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम रोटेटेबल स्पटरिंग लक्ष्य
ग्रेड 5 टाइटेनियम पीवीडी स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम बाइनरी लक्ष्य
उत्पाद का नाम: टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य (टीआई लक्ष्य)
सामग्री: शुद्ध टाइटेनियम (GR1 / GR2)
शुद्धता :299.5 प्रतिशत
घनत्व:4.51 ग्राम/सेमी3
अनाज का आकार:s1 00um
आकार(mmj:Da100-40/00*32mm,Dia63-40/6332m और आदि।
प्रौद्योगिकी: एचआईपी
संपर्क करें:
अगर आपके मन में कोई प्रश्न हैं, तो कृपया हमसे संपर्क करें। काम के घंटे: सुबह 8:30 बजे से शाम 17:30 बजे तक
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