इलेक्ट्रोलाइज़र के लिए सिंटेड पोरस अल्ट्रा-थिन 0.3 मिमी टाइटेनियम प्लेट्स

इलेक्ट्रोलाइज़र के लिए सिंटेड पोरस अल्ट्रा-थिन 0.3 मिमी टाइटेनियम प्लेट्स

उन्नत सतह क्षेत्र

बेहतर गैस प्रसार गुण

उन्नत इलेक्ट्रोलाइट प्रवाह

बेहतर वर्तमान वितरण
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उत्पाद का परिचय

TOPTITECH इलेक्ट्रोलाइज़र में पोरस ट्रांसफर लेयर्स (पीटीएल) के रूप में उपयोग के लिए दुनिया की सबसे पतली सिन्टरयुक्त पोरस टाइटेनियम प्लेटें पेश करने के लिए उत्साहित है। इलेक्ट्रोलाइज़र के अंदर एक महत्वपूर्ण घटक के रूप में, पीटीएल गैस वितरित करने और प्रवाह क्षेत्रों और इलेक्ट्रोड के बीच आयन परिवहन की अनुमति देने के लिए एक माध्यम के रूप में कार्य करता है। बाज़ार में पारंपरिक पीटीएल सामग्री अपने सीमित पतलेपन के कारण इलेक्ट्रोलाइज़र के आकार और आंतरिक प्रतिरोध को पर्याप्त रूप से कम करने के लिए संघर्ष करती है।

 

 

 

 

 

TOPTITECH की नव विकसित प्लेटें इस चुनौती का सीधे तौर पर समाधान करती हैं। एक अभिनव सिंटरिंग प्रक्रिया के माध्यम से उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम पाउडर से निर्मित, हमारी पीटीएल प्लेटों ने भूमिका के लिए आवश्यक सरंध्रता और चालकता को बनाए रखते हुए केवल 0.3 मिमी की अति पतली मोटाई हासिल की है।

 

 

 

 

प्रवाह क्षेत्र बनाने के लिए द्विध्रुवी प्लेटों के साथ कसकर एकीकृत होकर, TOPTITECH ग्राउंडब्रेकिंग पीटीएल डिज़ाइन इलेक्ट्रोलाइज़र के आंतरिक प्रतिरोध और मात्रा को नाटकीय रूप से कम करने में सक्षम है। यह आकार में समान वृद्धि के बिना इलेक्ट्रोलाइज़र क्षमता को बढ़ाने की अनुमति देता है। हमारा मानना ​​है कि हमारी 0.3 मिमी टाइटेनियम पीटीएल प्लेटें हरित हाइड्रोजन उत्पादन के लिए अगली पीढ़ी की उच्च-थ्रूपुट क्षारीय और पीईएम इलेक्ट्रोलिसिस प्रौद्योगिकियों को आगे बढ़ा सकती हैं।

Sintered porous Ultra-thin 03mm titanium plates 5
उत्पाद विशिष्टताएँ

 

सामग्री शुद्ध टाइटेनियम पाउडर
मोटाई 0.3मिमी
सरंध्रता 60% से ऊपर
रोम छिद्र के आकार का 60 माइक्रोन
आकार स्वनिर्धारित

तकनीक

सिंटरिंग

 

उत्पाद सुविधाएँ
Sintered porous Ultra-thin 03mm titanium plates 4

 

1. उन्नत सतह क्षेत्र: नियंत्रित छिद्र आकार और सिंटेड छिद्रित संरचना में वितरण प्लेटों के सतह क्षेत्र में काफी वृद्धि करता है। यह विस्तारित सतह क्षेत्र इलेक्ट्रोलाइट और इलेक्ट्रोड के बीच कुशल संपर्क को बढ़ावा देता है, जिससे इलेक्ट्रोलाइटिक प्रतिक्रियाओं के लिए उपलब्ध सक्रिय क्षेत्र अधिकतम हो जाता है। बड़ा सतह क्षेत्र अधिक संपर्क और बेहतर द्रव्यमान स्थानांतरण की अनुमति देता है, जिसके परिणामस्वरूप प्रतिक्रिया दर और समग्र इलेक्ट्रोलाइज़र दक्षता में वृद्धि होती है।

 

2. सुपीरियर गैस प्रसार गुण: छिद्रपूर्ण संरचना इलेक्ट्रोलाइट के माध्यम से हाइड्रोजन और ऑक्सीजन जैसी गैसों के प्रसार की सुविधा प्रदान करती है। अनुकूलित छिद्र आकार और वितरण प्लेटों की सतह पर गैस के बुलबुले के अधिक समान वितरण को सक्षम बनाता है। यह समान गैस वितरण गैस रुकावटों की संभावना को कम करता है और कुशल गैस-तरल संपर्क को बढ़ावा देता है, जिससे गैस प्रसार में सुधार होता है और प्रतिक्रिया गतिकी में वृद्धि होती है।

 

Sintered porous Ultra-thin 03mm titanium plates 3

 

3. उन्नत इलेक्ट्रोलाइट प्रवाह: पापयुक्त छिद्रपूर्ण संरचना प्लेटों के माध्यम से इलेक्ट्रोलाइट के प्रवाह को सुविधाजनक बनाती है। परस्पर जुड़े छिद्र इलेक्ट्रोलाइट को इलेक्ट्रोड संरचना में गहराई से प्रवेश करने, कुशल आयन परिवहन को बढ़ावा देने और एकाग्रता ग्रेडिएंट को कम करने के लिए मार्ग प्रदान करते हैं। यह बढ़ा हुआ इलेक्ट्रोलाइट प्रवाह इलेक्ट्रोड सतह पर समान इलेक्ट्रोलाइट वितरण सुनिश्चित करता है, सक्रिय साइटों के उपयोग को अनुकूलित करता है और समग्र इलेक्ट्रोलाइज़र प्रदर्शन में सुधार करता है।

 

 

4. बेहतर वर्तमान वितरण: छिद्रपूर्ण संरचना इलेक्ट्रोड सतह पर अधिक समान वर्तमान वितरण प्राप्त करने में मदद करती है। इलेक्ट्रोलाइट को संपूर्ण इलेक्ट्रोड संरचना में प्रवेश करने की अनुमति देकर, पापयुक्त छिद्रपूर्ण परत स्थानीयकृत वर्तमान घनत्व भिन्नता और इलेक्ट्रोड हॉटस्पॉट के जोखिम को कम करती है। यह समान वर्तमान वितरण लगातार इलेक्ट्रोड प्रतिक्रियाओं को सुनिश्चित करता है, जिससे उत्पाद की गुणवत्ता में सुधार होता है और ऊर्जा की खपत कम होती है।

आवेदन

1. ईंधन सेल: प्लेटें ईंधन सेल में उपयोग की जाती हैं, जहां वे गैस प्रसार परत (जीडीएल) या उत्प्रेरक समर्थन के रूप में काम करती हैं। प्लेटों का उच्च सतह क्षेत्र और छिद्रपूर्ण संरचना कुशल गैस प्रसार की सुविधा प्रदान करती है और प्रतिक्रियाशील गैसों के समान वितरण को बढ़ावा देती है, जिससे ऑटोमोटिव, पोर्टेबल पावर और स्थिर बिजली उत्पादन जैसे अनुप्रयोगों में ईंधन कोशिकाओं के प्रदर्शन में वृद्धि होती है।

2. उत्प्रेरण: प्लेटों का उपयोग विभिन्न उत्प्रेरक प्रक्रियाओं में उत्प्रेरक समर्थन के रूप में किया जाता है। छिद्रपूर्ण संरचना उत्प्रेरक जमाव के लिए एक बड़ा सतह क्षेत्र प्रदान करती है, जिससे उत्प्रेरक गतिविधि में वृद्धि और प्रतिक्रिया दर में सुधार होता है। इन प्लेटों का उपयोग रासायनिक संश्लेषण, पर्यावरण निवारण और निकास गैस उपचार जैसे उद्योगों में किया जाता है।

3. निस्पंदन: पापयुक्त छिद्रपूर्ण टाइटेनियम प्लेटों का उपयोग तरल पदार्थ और गैसों के लिए फिल्टर के रूप में किया जाता है। नियंत्रित छिद्र आकार और छिद्रों का समान वितरण कण पदार्थ, अशुद्धियों और दूषित पदार्थों के प्रभावी निस्पंदन को सक्षम बनाता है। इन प्लेटों का उपयोग जल निस्पंदन, वायु शोधन और औद्योगिक प्रक्रिया निस्पंदन जैसे अनुप्रयोगों में किया जाता है।

4. सेंसर: प्लेटों का उपयोग गैस सेंसर, आर्द्रता सेंसर और दबाव सेंसर सहित विभिन्न सेंसर अनुप्रयोगों में किया जाता है। छिद्रपूर्ण संरचना गैसों या नमी के कुशल प्रसार की अनुमति देती है, जिससे संवेदनशील और सटीक संवेदन क्षमताएं सक्षम होती हैं। इन प्लेटों का उपयोग पर्यावरण निगरानी, ​​औद्योगिक प्रक्रिया नियंत्रण और स्वास्थ्य देखभाल उपकरणों में किया जाता है।

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