सूक्ष्म शुद्ध टाइटेनियम वातन प्रमुख

सूक्ष्म शुद्ध टाइटेनियम वातन प्रमुख

1. समान ताकना आकार, उच्च सरंध्रता और स्थिर ताकना आकार;

2. बुलबुले समान रूप से फैलते हैं, वातन बुलबुले का व्यास छोटा होता है, और गैस-तरल इंटरफ़ेस क्षेत्र बड़ा होता है;

3. छोटे निस्पंदन प्रतिरोध, उच्च पृथक्करण और शुद्धिकरण दक्षता, और अच्छे यांत्रिक गुण;

4. अच्छा रासायनिक स्थिरता, एसिड, और क्षार संक्षारण प्रतिरोध, और अच्छा ऑक्सीकरण प्रतिरोध;

5. गैर-चुंबकीय, गैर-विषाक्त, गैर-शेडिंग, गैर-प्रदूषणकारी, अच्छी जैविक संगतता;

6. साफ करने में आसान और लंबी सेवा जीवन।
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उत्पाद का परिचय

सूक्ष्म शुद्ध टाइटेनियम वातन सिरमुख्य कच्चे माल के रूप में औद्योगिक शुद्ध टाइटेनियम पाउडर (99.6899 प्रतिशत से अधिक या बराबर शुद्धता) से बना है, जिसे उच्च तापमान और उच्च वैक्यूम पर पाप किया जाता है। गोलाकार टाइटेनियम वातन सिर का गोलाकार निचला व्यास Φ1 0 0 मिमी है, चाप की सतह Φ125 मिमी है, दीवार की मोटाई 3 मिमी है, वातन बुलबुले 0 हैं। 1-2 मिमी, और वातन प्रतिरोध छोटा है , गैस-तरल इंटरफ़ेस क्षेत्र बड़ा है, बुलबुले समान रूप से फैलते हैं, और कोई छेद अवरुद्ध नहीं होगा। पारंपरिक वातन की ऊर्जा खपत 40 प्रतिशत कम हो जाती है, और सीवेज उपचार की मात्रा लगभग दोगुनी हो जाती है। टाइटेनियम वातन सिर में मजबूत संक्षारण प्रतिरोध, उच्च एसिड और क्षार प्रतिरोध, और लंबी सेवा जीवन के फायदे हैं। यह उत्पाद शहरी सीवेज, बड़े जल संयंत्रों के नए विस्तार और पुराने वातन टैंकों के नवीनीकरण के साथ-साथ जल उपचार उद्योग में ओजोन वातन, रासायनिक उद्योग में उत्प्रेरक गैस वातन आदि के लिए उपयुक्त है।


  • उत्पाद की विशेषताएँ

1. समान ताकना आकार, उच्च सरंध्रता, और स्थिर ताकना आकार;

2. बुलबुले समान रूप से फैलते हैं, वातन बुलबुले का व्यास छोटा होता है, और गैस-तरल इंटरफ़ेस क्षेत्र बड़ा होता है;

3. छोटे निस्पंदन प्रतिरोध, उच्च पृथक्करण और शुद्धिकरण दक्षता, और अच्छे यांत्रिक गुण;

4. अच्छा रासायनिक स्थिरता, एसिड, और क्षार संक्षारण प्रतिरोध, और अच्छा ऑक्सीकरण प्रतिरोध;

5. गैर-चुंबकीय, गैर-विषाक्त, गैर-शेडिंग, गैर-प्रदूषणकारी, अच्छी जैविक संगतता;

6. साफ करने में आसान और लंबी सेवा जीवन।


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  • उत्पाद विवरण:


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टाइटेनियम वातन सिर

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शुद्ध टाइटेनियम वातन सिर

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धातु वातन सिर


  • आवेदन पत्र

उत्पाद के आवेदन के दायरे में शहरी सीवेज शामिल है,

  • रासायनिक उद्योग, पेट्रो रसायन उद्योग,

  • बायोइंजीनियरिंग, दवा उद्योग,

  • खाद्य उद्योग,

  • नए निर्माण और बड़े जल संयंत्रों का विस्तार और पुराने वातन टैंकों का नवीनीकरण।


यह ओजोन वातन, उच्च तापमान और मजबूत क्षार वातन के लिए विशेष रूप से उपयुक्त है।

water to be clean


  • सफाई विधि

1. फार्मास्युटिकल और रासायनिक क्षेत्रों में डीकार्बोनाइजेशन और निस्पंदन के लिए, अल्ट्रासोनिक सफाई के साथ संयुक्त बैकफ्लशिंग और बैकवाशिंग विधियों का उपयोग अक्सर सर्वोत्तम परिणाम प्राप्त करने के लिए किया जाता है।

2. जल उत्पादन उद्योग में, क्योंकि फिल्टर तत्व की सतह पर बनाए गए अधिकांश पानी-अघुलनशील लवण और ऑक्साइड 5 प्रतिशत नाइट्रिक एसिड में भिगोए जाते हैं, अल्ट्रासोनिक सफाई के बिना सफाई प्रभाव प्राप्त किया जा सकता है।

3. कच्चे तरल के निस्पंदन को प्रदूषकों के रासायनिक गुणों के साथ जोड़ा जाना चाहिए, और सफाई के लिए निम्नलिखित विधियों का उपयोग किया जाना चाहिए:

(1) क्षारीय धुलाई।

(2) अचार बनाना।

(3) कार्बनिक प्रदूषण को सर्फेक्टेंट सफाई के साथ जोड़ा जा सकता है।

(4) यदि शर्तें अनुमति देती हैं, तो अल्ट्रासोनिक क्लीनर के साथ संयोजन करना सबसे अच्छा है।


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