उत्पादों
अम्लीय अपशिष्ट गैस उपचार के लिए 1um टाइटेनियम पाउडर सिन्जेड फ़िल्टर
परिशुद्धता निस्पंदन प्रदर्शन
थर्मल और मैकेनिकल स्थिरता
सतत परिचालन अर्थशास्त्र
अम्लीय अपशिष्ट गैस उपचार के लिए TOPTITECH का 1um टाइटेनियम पाउडर सिंटर्ड फ़िल्टर 1μm पूर्ण निस्पंदन दक्षता प्राप्त करने के लिए नियंत्रित वातावरण में सिंटर किए गए ग्रेड-1 टाइटेनियम पाउडर का उपयोग करता है। 30-40% सरंध्रता के साथ अखंड संरचना अम्लीय निकास स्थितियों के तहत यांत्रिक अखंडता बनाए रखते हुए इष्टतम गैस पारगम्यता सुनिश्चित करती है। M30 थ्रेडेड इंटरफ़ेस मानक औद्योगिक गैस हैंडलिंग सिस्टम के साथ लीक-प्रूफ कनेक्शन संगतता प्रदान करता है, और 500 मिमी × 80 मिमी बेलनाकार डिज़ाइन कॉम्पैक्ट इंस्टॉलेशन फ़ुटप्रिंट के भीतर निस्पंदन सतह क्षेत्र को अधिकतम करता है।
सिंटर्ड टाइटेनियम मैट्रिक्स 280 डिग्री तक अंतर्निहित थर्मल स्थिरता के साथ, सल्फ्यूरिक, हाइड्रोक्लोरिक और नाइट्रिक एसिड वाष्प के लिए असाधारण संक्षारण प्रतिरोध प्रदर्शित करता है। समान छिद्र वितरण समय से पहले बंद हुए बिना लगातार कणों को पकड़ने में सक्षम बनाता है, जो इसे रासायनिक प्रसंस्करण, अर्धचालक विनिर्माण और धातुकर्म निकास उपचार अनुप्रयोगों में निरंतर संचालन के लिए आदर्श बनाता है। बाइंडरों या द्वितीयक कोटिंग्स की अनुपस्थिति आक्रामक वातावरण में संभावित गिरावट बिंदुओं को समाप्त कर देती है।
उत्पाद विशिष्टताएँ
| सामग्री |
GR1 टाइटेनियम पाउडर |
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निस्पंदन ग्रेड/छिद्र आकार |
1um |
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व्यास |
80 मिमी |
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लंबाई |
500 मिमी |
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सरंध्रता |
30%-40% |
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तकनीक |
सिंटरिंग |
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उत्पाद सुविधाएँ

सुपीरियर एसिड प्रतिरोध
1um टाइटेनियम पाउडर सिंटर्ड फिल्टर अपनी शुद्ध टाइटेनियम संरचना और बाइंडर मुक्त सिंटरिंग प्रक्रिया के कारण अम्लीय वातावरण में बेजोड़ संक्षारण प्रतिरोध प्रदर्शित करता है। इसकी सजातीय माइक्रोस्ट्रक्चर संरचनात्मक गिरावट के बिना सल्फ्यूरिक, हाइड्रोक्लोरिक और नाइट्रिक एसिड वाष्प के लंबे समय तक संपर्क का सामना करती है, आक्रामक अपशिष्ट गैस धाराओं में पॉलिमर आधारित या लेपित धातु विकल्पों से बेहतर प्रदर्शन करती है।
परिशुद्धता निस्पंदन प्रदर्शन
नियंत्रित कण आकार वितरण और अनुकूलित सिंटरिंग मापदंडों के माध्यम से प्राप्त 1μm पूर्ण निस्पंदन सटीकता के साथ, यह फ़िल्टर लगातार कण हटाने की दक्षता सुनिश्चित करता है। समान छिद्र ज्यामिति उच्च धूल धारण क्षमता को बनाए रखते हुए दबाव ड्रॉप को कम करती है, जो कि विस्तारित परिचालन चक्रों पर स्थिर निस्पंदन प्रदर्शन की आवश्यकता वाले औद्योगिक अनुप्रयोगों के लिए महत्वपूर्ण है।
थर्मल और मैकेनिकल स्थिरता
मोनोलिथिक टाइटेनियम मैट्रिक्स 280 डिग्री तक थर्मल साइक्लिंग के तहत आयामी अखंडता को बरकरार रखता है, जिससे समग्र फिल्टर में प्रदूषण या दरार के जोखिम को खत्म किया जाता है। इसका आइसोट्रोपिक ताकत वितरण निकास प्रणालियों में कंपन तनाव को समायोजित करता है, एम 30 थ्रेडेड इंटरफ़ेस उतार-चढ़ाव वाली दबाव स्थितियों के तहत मजबूत यांत्रिक सीलिंग प्रदान करता है।
सतत परिचालन अर्थशास्त्र
उपभोज्य घटकों और गैर-अपघटनशील टाइटेनियम सामग्री की अनुपस्थिति जीवनचक्र रखरखाव लागत को कम कर देती है। अल्ट्रासोनिक या बैकफ्लशिंग जैसी पुनर्योजी सफाई विधियां, सिंटेड संरचना को नुकसान पहुंचाए बिना निस्पंदन दक्षता को बहाल करती हैं, जिससे बैच प्रसंस्करण अनुप्रयोगों में बार-बार उपयोग संभव हो जाता है।


थर्मल और मैकेनिकल स्थिरता
मोनोलिथिक टाइटेनियम मैट्रिक्स 280 डिग्री तक थर्मल साइक्लिंग के तहत आयामी अखंडता को बरकरार रखता है, जिससे समग्र फिल्टर में प्रदूषण या दरार के जोखिम को खत्म किया जाता है। इसका आइसोट्रोपिक ताकत वितरण निकास प्रणालियों में कंपन तनाव को समायोजित करता है, एम 30 थ्रेडेड इंटरफ़ेस उतार-चढ़ाव वाली दबाव स्थितियों के तहत मजबूत यांत्रिक सीलिंग प्रदान करता है।
सतत परिचालन अर्थशास्त्र
उपभोज्य घटकों और गैर-अपघटनशील टाइटेनियम सामग्री की अनुपस्थिति जीवनचक्र रखरखाव लागत को कम कर देती है। अल्ट्रासोनिक या बैकफ्लशिंग जैसी पुनर्योजी सफाई विधियां, सिंटेड संरचना को नुकसान पहुंचाए बिना निस्पंदन दक्षता को बहाल करती हैं, जिससे बैच प्रसंस्करण अनुप्रयोगों में बार-बार उपयोग संभव हो जाता है।
अम्लीय अपशिष्ट गैस उपचार में अनुप्रयोग
सेमीकंडक्टर लिथोग्राफी निकास प्रणाली
फोटोरेसिस्ट स्ट्रिपिंग के दौरान उत्पन्न हाइड्रोफ्लोरिक एसिड (एचएफ) और नाइट्रिक एसिड (एचएनओ₃) वाष्प को पकड़ने के लिए 1um टाइटेनियम पाउडर सिंटेड फ़िल्टर को विसर्जन लिथोग्राफी टूल के डाउनस्ट्रीम में तैनात किया गया है। M30 फ्लैंज कनेक्शन के साथ ऊर्ध्वाधर निकास स्टैक में स्थापित, यह गैस के केंद्रीकृत स्क्रबर्स में प्रवेश करने से पहले सबमाइक्रोन एसिड बूंदों और सिलिकॉन युक्त कणों को रोकता है।
इलेक्ट्रोप्लेटिंग एसिड मिस्ट कंट्रोल
हार्ड क्रोमियम और निकल इलेक्ट्रोप्लेटिंग लाइनों में, फिल्टर सल्फ्यूरिक और हाइड्रोक्लोरिक एसिड मिस्ट को बेअसर करने के लिए प्लेटिंग टैंक के ऊपर स्लॉट प्रकार के वेंटिलेशन हुड में एकीकृत होता है। 500 मिमी कारतूस की लंबाई एसिड एयरोसोल को बड़ी बूंदों में एकत्रित करने के लिए पर्याप्त समय प्रदान करती है, जिन्हें बाद में गीले स्क्रबर्स में सूखा दिया जाता है। इसका टाइटेनियम निर्माण क्लोराइड से समृद्ध वातावरण में जमाव को रोकता है, उच्च घनत्व वाले अनुप्रयोगों में पॉलिमर धुंध हटाने वालों से बेहतर प्रदर्शन करता है।
टाइटेनियम डाइऑक्साइड उत्पादन बंद -गैस उपचार
TiO₂ निर्माण के लिए क्लोराइड प्रक्रिया के दौरान, फ़िल्टर उच्च {{1}तापमान (200-300 डिग्री) निकास ट्रेनों में एक पूर्व फ़िल्टर के रूप में कार्य करता है, उत्प्रेरक कन्वर्टर्स से पहले अप्रयुक्त TiCl₄ और क्लोरीन कणों को हटा देता है। एफआरपी हाउसिंग के भीतर समानांतर सरणियों में स्थापित, इसका सिंटेड मैट्रिक्स टाइटेनियम ऑक्सीक्लोराइड धूल की अपघर्षक प्रकृति को बनाए रखते हुए झेलता है<50Pa pressure drop across continuous 24/7 operation cycles.
पिकलिंग लाइन धूआं निष्कर्षण
स्टील और टाइटेनियम मिश्र धातु के अचार बनाने के संचालन में, नाइट्रिक {{1}हाइड्रोफ्लोरिक मिश्रित एसिड वाष्प को पकड़ने के लिए एसिड प्रतिरोधी पीपी डक्टवर्क के भीतर कई फिल्टर इकाइयों को श्रृंखला में कॉन्फ़िगर किया जाता है। 80 मिमी व्यास प्रक्रिया क्षेत्रों के पास कॉम्पैक्ट एकीकरण की अनुमति देता है, जबकि पापयुक्त छिद्र संरचना आमतौर पर अचार निकास धाराओं में पाए जाने वाले लौह नमक एरोसोल से अंधापन का प्रतिरोध करती है।
वेट प्रोसेस सेमीकंडक्टर टूल हुकअप्स
सेमीकंडक्टर फैब में गीले बेंच एग्जॉस्ट पोर्ट के साथ सीधे इंटरफेसिंग करते हुए, फ़िल्टर बीओई (बफ़र्ड ऑक्साइड ईच) और एससी -1/एससी -2 सफाई समाधान वाष्प को फँसाता है। इसका पूर्ण-धातु निर्माण वैक्यूम-संगत उपकरण कनेक्शन में आउटगैसिंग जोखिमों को समाप्त करता है, 1μm रेटिंग के साथ संवेदनशील प्रक्रिया क्षेत्रों में अमोनियम फ्लोराइड कणों की बैकस्ट्रीमिंग को रोकता है।
क्लोर-क्षार सेल वेंट गैस पॉलिशिंग
क्लोर {{0} क्षार पौधों में पारा या झिल्ली सेल वेंट के डाउनस्ट्रीम में स्थित, फिल्टर ट्रेस क्लोरीन और सोडियम हाइड्रॉक्साइड एरोसोल युक्त हाइड्रोजन गैस धाराओं के लिए अंतिम कण निष्कासन प्रदान करता है। संतृप्त नमकीन धुंध के साथ टाइटेनियम सामग्री की अनुकूलता इस उच्च{{3}आर्द्रता, उच्च-लवणीय वातावरण में दीर्घकालिक संचालन सुनिश्चित करती है।

टाइटेनियम पाउडर सिंटर्ड फिल्टर के लिए उपयुक्त अम्लीय गैसें
- सल्फ्यूरिक एसिड (H₂SO₄) और व्युत्पन्न
टाइटेनियम सिंटर्ड फिल्टर सल्फ्यूरिक एसिड वाष्प और एरोसोल के प्रति असाधारण प्रतिरोध प्रदर्शित करते हैं, विशेष रूप से TiO₂ क्लोराइड प्रक्रिया में गैस (SO₂/SO₃ युक्त) और लेड एसिड बैटरी विनिर्माण निकास प्रणाली को बंद करने में। संकेंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड के प्रति उनका संक्षारण प्रतिरोध पॉलिमर आधारित विकल्पों से बेहतर है, जिसमें लंबे समय तक एक्सपोज़र के तहत ग्रैफ़िटाइज़ेशन या भंगुरता का कोई जोखिम नहीं होता है।
- हाइड्रोक्लोरिक एसिड (एचसीएल) और हाइड्रोजन क्लोराइड गैस
सेमीकंडक्टर नक़्क़ाशी निकास और पीवीसी उत्पादन टेल गैस के लिए आदर्श, टाइटेनियम फ़िल्टर गीली क्लोरीन गैस और एचसीएल मिश्रण का सामना करते हैं, जो राल {{0}बॉन्डेड फ़िल्टर में आम सूजन की समस्या के बिना होता है। बाइंडर मुक्त सिंटेड संरचना इलेक्ट्रोप्लेटिंग वेंटिलेशन सिस्टम में सबमाइक्रोन हाइड्रोक्लोरिक एसिड एरोसोल को प्रभावी ढंग से पकड़ती है।
- नाइट्रिक एसिड (HNO₃) और नाइट्रोजन ऑक्साइड
टीएनटी उत्पादन नाइट्रेशन प्रतिक्रियाओं और धातु पिकलिंग लाइनों (स्टेनलेस स्टील निष्क्रियता) में, टाइटेनियम फिल्टर फ्यूमिंग नाइट्रिक एसिड को सहन करते हैं। सिंटर्ड मैट्रिक्स नाइट्रिक एसिड वाष्प द्वारा ले जाए जाने वाले धातु नमक कणों को फ़िल्टर करता है, जिससे एससीआर सिस्टम में डाउनस्ट्रीम उत्प्रेरक विषाक्तता को रोका जा सकता है।
- हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड (एचएफ) और फ्लोराइड गैसें
एचएफ के साथ संगत कुछ धातु फिल्टरों में से एक के रूप में, टाइटेनियम सिंटेड तत्व फोटोवोल्टिक सिलिकॉन नक़्क़ाशी और ग्लास फ्रॉस्टिंग प्रक्रियाओं (जब पीटीएफई सील के साथ जोड़ा जाता है) में महत्वपूर्ण होते हैं। 1μm छिद्र संरचना हेक्साफ्लोरोसिलिक एसिड (H₂SiF₆) क्रिस्टल को रोकती है, जिससे लाइन अवरोधों को रोका जा सकता है।
- मिश्रित एसिड गैस धाराएँ
धातुकर्म उद्योग निकास के लिए (उदाहरण के लिए, H₂SO₄-HNO₃-HF मिश्रित धुएं) और पेट्रोलियम FCC सल्फर-युक्त गैसों (H₂S-SO₂) के लिए, टाइटेनियम फिल्टर सहक्रियात्मक संक्षारण प्रतिरोध प्रदर्शित करते हैं। उनका थर्मल विस्तार गुणांक औद्योगिक डक्टिंग से मेल खाता है, जो उच्च तापमान (280 डिग्री से कम या उसके बराबर) डिस्चार्ज बिंदुओं पर सीधे स्थापना को सक्षम बनाता है।
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पता: नहीं. 195, गाओक्सिन एवेन्यू, हाई{1}}तकनीकी विकास क्षेत्र, बाओजी सिटी, शानक्सी, चीन
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