एक टाइटेनियम इलेक्ट्रोड क्या है?
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एक टाइटेनियम इलेक्ट्रोड क्या है?

एक टाइटेनियम इलेक्ट्रोड क्या है?

1. क्लोर-क्षार उद्योग और क्लोरेट उद्योग में सोडियम हाइपोक्लोराइट का इलेक्ट्रोलाइटिक उत्पादन;

2. इलेक्ट्रोलाइज्ड कार्यात्मक पानी;

3. सोडियम हाइपोक्लोराइट जनरेटर और क्लोरीन डाइऑक्साइड जनरेटर के लिए इलेक्ट्रोड का निर्माण;

4. कैथोडिक सुरक्षा।

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उत्पाद का परिचय

टाइटेनियम इलेक्ट्रोड एक प्रकार का इलेक्ट्रोड है जो धातु टाइटेनियम को सब्सट्रेट के रूप में उपयोग करता है और अंत में टाइटेनियम सब्सट्रेट पर सिंटरिंग और ऑक्सीकरण द्वारा इलेक्ट्रोकैटलिटिक गतिविधि के साथ एक ऑक्साइड कोटिंग बनाता है। उपयोग के दौरान इसकी भौतिक आयाम स्थिरता के कारण, इसे डायमेंशनली स्टेबल एनोड (लघु के लिए डीएसए) भी कहा जाता है।

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टाइटेनियम इलेक्ट्रोड वर्गीकरण

कोटिंग की रासायनिक संरचना और मुख्य विद्युत रासायनिक गुणों के अनुसार, टाइटेनियम इलेक्ट्रोड को मोटे तौर पर निम्नलिखित तीन श्रेणियों में विभाजित किया जा सकता है:

▲ रूथेनियम कोटेड टाइटेनियम इलेक्ट्रोड

इस प्रकार के इलेक्ट्रोड में कम क्लोरीन विकास अधिक क्षमता और उच्च ऑक्सीजन विकास अधिक क्षमता है और मुख्य रूप से विभिन्न क्लोरीन विश्लेषण अवसरों में उपयोग किया जाता है, जैसे कि क्लोर-क्षार उद्योग, कैथोडिक संरक्षण, आदि। इस प्रकार के इलेक्ट्रोड कोटिंग में मूल रूथेनियम-टाइटेनियम कोटिंग शामिल है ( Ru-Ti) और Ru-Ir-Ti, Ru-Co-Ti, Ru-Co-Sn-Ti, Ru-Sn-Ti, Ru-Si-Ti, Ru-Ti-Zr, Ru-Ti-La, Ru -Ti-Ce, और अन्य कोटिंग्स।

गैर रूथेनियम-लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड

रूथेनियम एक कीमती धातु है जिसकी प्रकृति में उच्च कीमत और सीमित भंडार है। आरयू की मात्रा को कम करने या आरयू को पूरी तरह से बदलने के लिए, एक गैर-रूथेनियम-आधारित लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड विकसित किया गया था। इस प्रकार के इलेक्ट्रोड में आम तौर पर उच्च ऑक्सीजन विकास होता है। अधिक सफल इलेक्ट्रोड में टिन-एंटीमनी-लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड, Co3O4 स्पिनल-लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड और पैलेडियम ऑक्साइड-लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड शामिल हैं।

इरिडियम लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड

कुछ इलेक्ट्रोलाइटिक प्रक्रियाओं में, जैसे कि अलौह धातुओं का इलेक्ट्रोलाइटिक निष्कर्षण, इलेक्ट्रोप्लेटिंग उद्योग, और कार्बनिक पदार्थ का उत्पादन करने के लिए इलेक्ट्रोकेमिकल कमी, आदि, एनोड की डिजाइन प्रतिक्रिया एक ऑक्सीजन विकास प्रतिक्रिया है, इसलिए एनोड सामग्री विकसित होने की उम्मीद है। कम ऑक्सीजन विकास के साथ अधिक संभावित, इरिडियम कोटिंग यह इस पृष्ठभूमि के खिलाफ है कि स्तरित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड विकसित किए गए थे। इस तरह के इलेक्ट्रोड कोटिंग्स में Ir-Co, Ir-Ta, Ir-Sn, Ir-Ta-Co, Ir-Ru-Pd-Ti और अन्य कोटिंग्स शामिल हैं। उनमें से, इर-टा-लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड सबसे सफल ऑक्सीजन विकास इलेक्ट्रोड है।

टाइटेनियम इलेक्ट्रोड की तैयारी के तरीके इस प्रकार हैं

■थर्मल अपघटन

थर्मल अपघटन विधि आमतौर पर कार्बनिक सॉल्वैंट्स या जलीय घोल में धातु के नमक के यौगिकों को घोलती है, टाइटेनियम सब्सट्रेट पर घोल को कोट करती है, विलायक को गर्म करके वाष्पीकृत करती है, और फिर ऑक्साइड कोटिंग प्राप्त करने के लिए नमक को विघटित और ऑक्सीकरण करने के लिए उच्च तापमान पर सिंटर करती है। कोटिंग के तरीकों में छिड़काव, रोलिंग या ब्रश करना शामिल है। छिड़काव और रोलिंग कोटिंग में उच्च स्तर का मशीनीकरण होता है, बड़े पैमाने पर औद्योगिक उत्पादन के लिए उपयुक्त होते हैं, और काम करने का अच्छा माहौल होता है। कोटिंग अपेक्षाकृत समान है, लेकिन कोटिंग तरल का अपशिष्ट अपेक्षाकृत बड़ा है। ब्रश कोटिंग आम तौर पर छोटे पैमाने पर उत्पादन के लिए उपयुक्त होती है। इस पद्धति के लिए सरल उपकरण और कोटिंग तरल के कम नुकसान की आवश्यकता होती है, लेकिन श्रम की तीव्रता अधिक होती है, काम का माहौल खराब होता है, और प्राप्त कोटिंग अक्सर एक समान नहीं होती है। थर्मल अपघटन विधि का उपयोग करके, बहु-घटकों और उत्कृष्ट प्रदर्शन वाले ऑक्साइड इलेक्ट्रोड को कोटिंग फॉर्मूलेशन [2,3] को नियंत्रित करके आसानी से तैयार किया जा सकता है।

सोल-जेल विधि

सोल-जेल विधि कोलाइड रसायन विज्ञान के सिद्धांत के आधार पर लेप तैयार करने की एक उभरती हुई विधि है। यह अल्ट्राफाइन ग्रेन के साथ इलेक्ट्रोड कोटिंग तैयार कर सकता है, जो इलेक्ट्रोड सतह [4,5] के विशिष्ट सतह क्षेत्र को बहुत बढ़ा देता है। इस विधि द्वारा टाइटेनियम इलेक्ट्रोड तैयार करने की सामान्य प्रक्रिया धातु-कार्बनिक यौगिकों (जैसे धातु एल्कॉक्साइड्स) या अकार्बनिक यौगिकों को सॉल्वैंट्स में फैलाना है, हाइड्रोलिसिस के माध्यम से सक्रिय मोनोमर्स उत्पन्न करना, और सक्रिय मोनोमर्स को सॉल बनाने के लिए पोलीमराइज़ करना और सॉल को कोट करना है। टाइटेनियम सब्सट्रेट, जेल फिल्म प्राप्त करने के लिए सोल फिल्म को सुखाया जाता है, और फिर एक कोटिंग प्राप्त करने के लिए एक निश्चित तापमान पर पाप किया जाता है। पारंपरिक थर्मल अपघटन विधि की तुलना में, इस विधि द्वारा तैयार इलेक्ट्रोड कोटिंग एक समान है, दाने महीन होते हैं, और लगभग कोई दरार नहीं होती है, जिसने हाल के वर्षों में बहुत ध्यान आकर्षित किया है।

इलेक्ट्रोडिपॉसिशन

इलेक्ट्रोडपोजिशन विधि का उपयोग लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड तैयार करने के लिए किया जाता है। आम तौर पर, एक अघुलनशील इलेक्ट्रोड का उपयोग एनोड के रूप में किया जाता है, और पूर्वनिर्मित धातु टाइटेनियम का उपयोग कैथोड के रूप में किया जाता है। यह संबंधित धातु आयनों वाले समाधान में इलेक्ट्रोलाइज्ड होता है, और धातु आयन धातु टाइटेनियम कैथोड पर जमा होते हैं। सुखाने के बाद, फिर उच्च तापमान लेपित टाइटेनियम इलेक्ट्रोड सिंटरिंग द्वारा प्राप्त किया जाता है। इस विधि द्वारा प्राप्त कोटिंग्स आमतौर पर अपेक्षाकृत समान और सघन होती हैं। इस पद्धति का नुकसान यह है कि प्रक्रिया जटिल है, और एक समान बड़े क्षेत्र का इलेक्ट्रोड बनाना आसान नहीं है।

स्पटरिंग विधि

स्पटरिंग विधि द्वारा तैयार की गई फिल्म सघन होती है और सब्सट्रेट के साथ एक मजबूत बंधन बल होता है। हालांकि, इस विधि को विशेष उपकरण का उपयोग करने की आवश्यकता है, तैयारी की प्रक्रिया अपेक्षाकृत जटिल है, और मां शराब अधिक बर्बाद हो जाती है, इसलिए यह औद्योगिक बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए उपयुक्त नहीं है।

उत्पादन प्रक्रिया का परिचय

1. TA1 प्रकार की टाइटेनियम आधार सामग्री चुनें, और सुनिश्चित करें कि प्लेट की सतह गहरी खरोंच और अपूर्णता के बिना चिकनी और चिकनी है।


2. चयनित टाइटेनियम सब्सट्रेट पर यांत्रिक प्रसंस्करण करें, और इसे ग्राहकों द्वारा आवश्यक विनिर्देशों और आकारों में संसाधित करें।


3. Perform annealing and leveling treatment on the titanium substrate at a temperature >500 डिग्री। (तनाव को खत्म करने और समतलता सुनिश्चित करने के लिए।)


4. एनीलिंग और लेवलिंग उपचार के दौरान, टाइटेनियम सब्सट्रेट की सतह पर एक घने टाइटेनियम ऑक्साइड परत का गठन किया जाएगा, और इसे यंत्रवत् या मैन्युअल रूप से पॉलिश किया जाएगा ताकि सतह में टाइटेनियम की धातु की चमक हो।


5. टाइटेनियम सब्सट्रेट को अचार और खुरचना करने के लिए ऑक्सालिक एसिड की 10 प्रतिशत सांद्रता का उपयोग करें, और थोड़ा उबलने की स्थिति में कई घंटे तक ले जाएं, ताकि सतह ऑक्साइड परत टाइटेनियम हाइड्राइड की सतह में नक़्क़ाशीदार हो जाए।


6. ग्राहक द्वारा लागू किए गए एनोड वातावरण के अनुसार कीमती धातु के घोल का उचित गुणात्मक और मात्रात्मक विन्यास करें।


7. जाँच करें कि अचार बनाने वाली टाइटेनियम आधार सामग्री योग्य है, अर्थात, सतह परत एक ग्रे समान पॉकमार्क वाली संरचना है, और फिर मैन्युअल कोटिंग करें, सेट उपयुक्त तापमान के अनुसार सिंटरिंग करें, भट्ठी से बाहर निकलने के बाद स्वाभाविक रूप से ठंडा करें, और कमरे के तापमान पर ठंडा होने पर दूसरी कोटिंग लगाएं। निचोड़ें, और इसी तरह, कॉन्फ़िगरेशन समाधान को लागू करने के लिए 17 से 20 गुना से अधिक तक।


8. उपर्युक्त संसाधित भागों की सिंटरिंग पूरी होने के बाद, भट्ठी परीक्षण टुकड़े के साथ जीवन प्रयोग परीक्षण किया जाता है, और परीक्षण योग्य है और वितरण के लिए पैक किया गया है।


मुख्य आवेदन क्षेत्र

1. क्लोर-क्षार उद्योग और क्लोरेट उद्योग में सोडियम हाइपोक्लोराइट का इलेक्ट्रोलाइटिक उत्पादन

2. इलेक्ट्रोलाइज्ड कार्यात्मक पानी

3. सोडियम हाइपोक्लोराइट जनरेटर और क्लोरीन डाइऑक्साइड जनरेटर के लिए इलेक्ट्रोड का निर्माण।

4. कैथोडिक सुरक्षा

संपर्क

दूरभाष: प्लस 8618992731201

फैक्स: 0917-3873009

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