उत्पादों
टाइटेनियम माइक्रो पोरस फ्लो चैनल प्लेट्स
अनुकूल छिद्र संरचना;
ऊष्मीय चालकता;
बहुमुखी अनुप्रयोग.
टाइटेनियम माइक्रोपोरस फ्लो चैनल प्लेटें सिंटरिंग प्रक्रियाओं का उपयोग करके टाइटेनियम पाउडर से बनी व्यापक रूप से उपयोग की जाने वाली सामग्री हैं। इनमें कई छोटे छिद्र होते हैं जो द्रव या गैस स्थानांतरण के लिए चैनल और वितरण पथ प्रदान करते हैं। टाइटेनियम झरझरा प्रवाह प्लेटों का विभिन्न औद्योगिक क्षेत्रों जैसे केमिकल इंजीनियरिंग, तेल और गैस उद्योग, एयरोस्पेस और अन्य में व्यापक अनुप्रयोग मिलता है।
टाइटेनियम माइक्रोपोरस फ्लो चैनल प्लेटों की छिद्रपूर्ण संरचना द्रव या गैस स्थानांतरण और फैलाव के लिए अतिरिक्त मार्ग और अवसर प्रदान करती है। यह बड़े पैमाने पर स्थानांतरण, गर्मी हस्तांतरण और मिश्रण प्रभाव को बढ़ाता है, जबकि विशिष्ट आवश्यकताओं के अनुसार प्रवाह दर और दबाव ड्रॉप को नियंत्रित करने की भी अनुमति देता है। ये विशेषताएँ रासायनिक प्रतिक्रियाओं, सेंसर, निस्पंदन और पृथक्करण प्रक्रियाओं सहित विभिन्न अनुप्रयोगों में टाइटेनियम छिद्रपूर्ण प्रवाह प्लेटों को महत्वपूर्ण बनाती हैं।
उत्पाद पैरामीटर
सामग्री: शुद्ध टाइटेनियम
ब्रांड: टॉप्टिटेक
तकनीकी: सिंटरिंग
आकार: 60*60*1मिमी
चम्फर: ड्राइंग के रूप में
छिद्र का आकार: 30 माइक्रोन

उत्पाद सुविधाएँ
1
उन्नत द्रव्यमान स्थानांतरण और ऊष्मा स्थानांतरण: टाइटेनियम प्रवाह प्लेटों की छिद्रपूर्ण संरचना द्रव या गैस प्रवाह के लिए कई चैनल और रास्ते प्रदान करती है। यह प्रवाह माध्यम और प्रवाह प्लेट के बीच संपर्क सतह क्षेत्र को बढ़ाता है, जिससे कुशल द्रव्यमान स्थानांतरण और गर्मी हस्तांतरण प्रक्रियाओं को बढ़ावा मिलता है। उन्नत इंटरफेशियल संपर्क से रासायनिक प्रतिक्रियाओं, निस्पंदन और हीट एक्सचेंजर्स जैसे अनुप्रयोगों में बेहतर प्रदर्शन होता है।
2
अनुकूल छिद्र संरचना: टाइटेनियम छिद्रपूर्ण प्रवाह प्लेटों की छिद्र संरचना को विशिष्ट अनुप्रयोग आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित और तैयार किया जा सकता है। वांछित प्रवाह विशेषताओं, दबाव बूंदों और प्रवाह दर को प्राप्त करने के लिए छिद्रों के आकार, आकार, वितरण और छिद्र को इंजीनियर किया जा सकता है। यह लचीलापन विभिन्न अनुप्रयोगों में अनुकूलित डिज़ाइन और प्रदर्शन की अनुमति देता है।
3
तापीय चालकता: टाइटेनियम में अच्छी तापीय चालकता होती है, जो प्रवाह प्लेटों में कुशल ताप हस्तांतरण और वितरण को सक्षम बनाती है। यह गुण उन अनुप्रयोगों में विशेष रूप से फायदेमंद है जिनके लिए सटीक तापमान नियंत्रण की आवश्यकता होती है, जैसे कि ईंधन सेल, जहां इष्टतम प्रदर्शन के लिए समान गर्मी वितरण महत्वपूर्ण है।
4
बहुमुखी अनुप्रयोग: टाइटेनियम झरझरा प्रवाह प्लेटें उद्योगों और प्रौद्योगिकियों की एक विस्तृत श्रृंखला में अनुप्रयोग पाती हैं। कुछ उल्लेखनीय क्षेत्रों में केमिकल इंजीनियरिंग, तेल और गैस उद्योग, एयरोस्पेस, बायोमेडिकल इंजीनियरिंग, नवीकरणीय ऊर्जा और बहुत कुछ शामिल हैं। इनका उपयोग रिएक्टरों, विभाजकों, ईंधन कोशिकाओं, हीट एक्सचेंजर्स, सेंसर और अन्य प्रणालियों में किया जाता है जहां द्रव या गैस प्रबंधन, बड़े पैमाने पर स्थानांतरण और गर्मी प्रबंधन आवश्यक है।




उत्पाद अनुप्रयोग
केमिकल इंजीनियरिंग: समान द्रव्यमान स्थानांतरण और प्रतिक्रिया प्रभाव प्रदान करने के लिए रासायनिक रिएक्टरों, सोखना पृथक्करण, उत्प्रेरक वाहक आदि में उपयोग किया जाता है।
तेल और गैस उद्योग: जटिल प्रक्रिया आवश्यकताओं और पर्यावरणीय परिस्थितियों को पूरा करने के लिए तेल कुएं के उत्पादन, गैस पृथक्करण, संक्षारण संरक्षण आदि में उपयोग किया जाता है।
एयरोस्पेस: कुशल तरल पदार्थ और थर्मल प्रबंधन प्रदान करने के लिए एयरोस्पेस इंजन, ईंधन सेल, अंतरिक्ष यान थर्मल नियंत्रण आदि में उपयोग किया जाता है।
बायोमेडिकल: सटीक पदार्थ परिवहन और जैविक प्रतिक्रियाओं को प्राप्त करने के लिए कृत्रिम अंगों, ऊतक इंजीनियरिंग, दवा वितरण आदि में उपयोग किया जाता है।
नवीकरणीय ऊर्जा: कुशल गैस और इलेक्ट्रॉन हस्तांतरण प्रदान करने के लिए टाइटेनियम छिद्रपूर्ण प्रवाह प्लेटों का उपयोग ईंधन कोशिकाओं, सौर कोशिकाओं आदि में किया जा सकता है।
सवाल
टाइटेनियम झरझरा प्रवाह प्लेटों की झरझरा संरचना तरल पदार्थ और गैसों के स्थानांतरण और फैलाव को कैसे प्रभावित करती है?
चैनलिंग और वितरण: छिद्रपूर्ण संरचना कई छोटे छिद्र बनाती है, जो तरल पदार्थ या गैसों के लिए चैनल और वितरण पथ प्रदान करती है। ये चैनल प्रवाह प्लेट के भीतर तरल पदार्थ या गैसों के समान स्थानांतरण और व्यापक क्षेत्र में फैलाव की अनुमति देते हैं।
संपर्क सतह क्षेत्र में वृद्धि: छिद्रपूर्ण संरचना की उपस्थिति से द्रव या गैस और प्रवाह प्लेट के बीच संपर्क सतह क्षेत्र बढ़ जाता है। यह बड़े पैमाने पर स्थानांतरण और गर्मी हस्तांतरण प्रक्रियाओं को बढ़ाता है, जिससे द्रव या गैस और प्रवाह प्लेट के बीच अधिक गहन संपर्क की अनुमति मिलती है।
अशांति और मिश्रण को बढ़ावा: छिद्रपूर्ण संरचना तरल पदार्थ या गैसों में अशांति और मिश्रण प्रभाव उत्पन्न कर सकती है। छिद्रों की उपस्थिति के कारण, छिद्रपूर्ण प्रवाह प्लेट से गुजरने वाले तरल पदार्थ या गैसें अशांति और भंवर उत्पन्न करती हैं, जिससे मिश्रण की डिग्री बढ़ जाती है और बड़े पैमाने पर स्थानांतरण और गर्मी हस्तांतरण दक्षता में सुधार होता है।
प्रवाह दर और दबाव ड्रॉप का नियंत्रण: छिद्रपूर्ण संरचना छिद्रों के आकार, आकार और वितरण के माध्यम से तरल पदार्थ या गैसों की प्रवाह दर और दबाव ड्रॉप को नियंत्रित कर सकती है। विभिन्न छिद्र संरचनाएं विशिष्ट अनुप्रयोगों में द्रव या गैस स्थानांतरण आवश्यकताओं को पूरा करते हुए, विभिन्न प्रवाह दर वितरण और दबाव प्रवणता प्राप्त कर सकती हैं।
संपर्क
दूरभाष: 0917-3873009
फ़ोन: प्लस 86 18992731201
फ़ैक्स:0917-3873009
पता संख्या। 195, गाओक्सिन एवेन्यू, हाई-टेक डेवलपमेंट ज़ोन, बाओजी सिटी, शानक्सी, चीन
व्हाट्सएप: प्लस 86 18992731201
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