शुद्ध टाइटेनियम वातन प्रमुख

प्रोडक्ट का नाम:शुद्ध टाइटेनियम वातन सिर

सामग्री: शुद्ध टाइटेनियम

ग्रेड: GR1

एमओक्यू: 50 पीसीएस

भुगतान: टी/टी 30 प्रतिशत

वातन सिर विनिर्देशों और मॉडल:
गोलाकार वातन सिर: 100 मिमी 150 मिमी Φ180 मिमी
फ्लैट वातन सिर: 125MM 180MM Φ235MM
ट्यूब वातन सिर:
व्यास: 14 मिमी Φ20 मिमी Φ30 मिमी 40 मिमी Φ50 मिमी Φ60 मिमी
लंबाई: 10एमएम-1000एमएम

शुद्ध टाइटेनियम वातन सिरउच्च तापमान और उच्च वैक्यूम सिंटरिंग के माध्यम से मुख्य कच्चे माल के रूप में औद्योगिक शुद्ध टाइटेनियम पाउडर (शुद्धता 99.6899 प्रतिशत) के साथ। इसकी एकसमान संरचना, सूक्ष्म छिद्र 0। 22-100 मीटर, सरंध्रता 35-50 प्रतिशत, छोटे निस्पंदन प्रतिरोध, उच्च पृथक्करण, शुद्धिकरण दक्षता, अच्छा यांत्रिक प्रदर्शन, फ्लैट प्रकार, गोलाकार प्रकार, फ्लैट बाहरी व्यास 125 मिमी, 180 मिमी, 245 मिमी, गोलाकार निचला व्यास 100 मिमी, 150 मिमी, 180 मिमी, 3 मिमी मोटाई, 5-10 उम। लंबी सेवा जीवन। यह शहरी सीवेज, बड़े जल संयंत्रों के निर्माण और विस्तार और पुराने वातन के नवीनीकरण के लिए विशेष रूप से उपयुक्त है।

शुद्ध टाइटेनियम वातन सिर विशेषताएं:

1. स्थिर ताकना आकार; एकसमान छिद्र व्यास और उच्च सरंध्रता;

2. बुलबुला प्रसार सम है, वातन बुलबुला व्यास छोटा है, और गैस-तरल सीमा क्षेत्र बड़ा है;

3. उच्च तापमान प्रतिरोधी, जिसे सामान्य रूप से 280 डिग्री से नीचे इस्तेमाल किया जा सकता है;

4. छोटे निस्पंदन प्रतिरोध, उच्च पृथक्करण और शुद्धिकरण दक्षता, और अच्छा यांत्रिक प्रदर्शन;

उत्पाद रखरखाव

सामान्य दोष वातन सिर के सूक्ष्म छेद अवरुद्ध हैं, और वातन को वातन नहीं किया जा सकता है या वातन मात्रा कम है; आमतौर पर, इसे हल करने के लिए सफाई विधि का उपयोग किया जाता है। कई सामान्य अनुप्रयोग और सफाई के तरीके हैं

1. फार्मास्युटिकल और रासायनिक क्षेत्रों में डीकार्बोनाइजेशन और निस्पंदन के लिए, अल्ट्रासोनिक सफाई के साथ संयुक्त बैकफ्लशिंग और बैकवाशिंग विधियों का उपयोग अक्सर बेहतर परिणाम प्राप्त करने के लिए किया जाता है।

2. जल उत्पादन उद्योग में, क्योंकि फिल्टर तत्व की सतह पर बनाए गए अधिकांश पानी-अघुलनशील लवण और ऑक्साइड 5 प्रतिशत नाइट्रिक एसिड में भिगोए जाते हैं, अल्ट्रासोनिक सफाई के बिना सफाई प्रभाव प्राप्त किया जा सकता है।

3. मूल विलयन के निस्पंदन को प्रदूषकों के रासायनिक गुणों के साथ जोड़ा जाना चाहिए, और सफाई के लिए निम्नलिखित विधियों का उपयोग किया जाना चाहिए:

(1) क्षारीय धुलाई: लगभग 40 डिग्री के तापमान पर 3-5 प्रतिशत सोडियम हाइड्रॉक्साइड विश्लेषणात्मक रूप से शुद्ध घोल में 30-60 मिनट के लिए भिगोएँ, जो एक अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन में बेहतर है। भिगोने के बाद, तटस्थता के लिए इंजेक्शन के लिए फ़िल्टर किए गए विआयनीकृत पानी या पानी से अंदर और बाहर कुल्ला करें, और चालकता को मापें। शुद्ध हवा के साथ सूखा 0.4MPa दबाव से अधिक या उसके बराबर।

(2) अचार बनाना: 5 प्रतिशत नाइट्रिक एसिड के घोल में 8 घंटे से अधिक समय तक भिगोएँ, और तापमान लगभग 40 डिग्री है। अल्ट्रासोनिक क्लीनर में बेहतर। भिगोने के बाद, तटस्थता और पार्श्व चालकता के लिए इंजेक्शन के लिए फ़िल्टर किए गए विआयनीकृत पानी या पानी से अंदर और बाहर कुल्ला करें। शुद्ध हवा के साथ सूखा 0.4MPa दबाव से अधिक या उसके बराबर।

(3) कार्बनिक प्रदूषण को सर्फेक्टेंट सफाई के साथ जोड़ा जा सकता है, और एंजाइम सफाई के साथ संयुक्त सेल मलबे प्रदूषण प्रणाली अधिक प्रभावी है (खाद्य और पेय पदार्थों को उच्च सांद्रता वाले साइट्रिक एसिड से साफ किया जा सकता है)।

(4) उपरोक्त विधियों का उपयोग अकेले या वैकल्पिक रूप से एक दूसरे के साथ किया जा सकता है। यदि शर्तें पूरी होती हैं, तो अल्ट्रासोनिक सफाई मशीन के साथ संयोजन का प्रभाव अच्छा होता है।

आवेदन पत्र

1. शुद्ध पानी और खनिज पानी ओजोन नसबंदी और वातन।

2. औद्योगिक अपशिष्ट जल का ओजोन वातन।

3. घरेलू सीवेज उपचार वातन टैंक का वातन।

4. पेट्रोकेमिकल अपशिष्ट जल का ओजोन वातन।

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