सिंटर्ड पोरस टाइटेनियम गैस शोधन रिंग
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सिंटर्ड पोरस टाइटेनियम गैस शोधन रिंग

सिंटर्ड पोरस टाइटेनियम गैस शोधन रिंग

एकीकृत सिंटेड निर्माण
उच्च-शुद्धता टाइटेनियम संरचना
समान छिद्र वितरण
लंबी अवधि की संरचनात्मक स्थिरता
सिस्टम एकीकरण में आसानी
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उत्पाद का परिचय

सिन्टरयुक्त झरझरा टाइटेनियम गैस शोधन रिंग एक सटीक सिंटरिंग प्रक्रिया के माध्यम से निर्मित होती है, जो एक समान और स्थिर धात्विक झरझरा मैट्रिक्स बनाती है। यह उच्च तापमान, उच्च शुद्धता या निर्वात वातावरण में विश्वसनीय गैस शुद्धिकरण और सोखना सक्षम बनाता है। समान रूप से वितरित छिद्र गैस के सुचारू मार्ग की अनुमति देते हैं जबकि प्रभावी ढंग से ट्रेस प्रदूषकों को पकड़ते हैं, जिससे सिस्टम के भीतर एक स्वच्छ और स्थिर वातावरण सुनिश्चित होता है। उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और यांत्रिक अखंडता के साथ, यह लंबी अवधि के संचालन के दौरान लगातार प्रदर्शन बनाए रखता है।

 

इस शुद्धिकरण रिंग का व्यापक रूप से अर्धचालक निर्माण, वैक्यूम कोटिंग, उच्च शुद्धता वाली गैस वितरण और ऑक्सीजन, नमी और अन्य प्रतिक्रियाशील अशुद्धियों को हटाने के लिए अनुसंधान प्रयोगशाला प्रणालियों में उपयोग किया जाता है। इसकी मजबूत सिन्टर संरचना उत्कृष्ट स्थायित्व और पुन: प्रयोज्यता प्रदान करती है, जो मांग वाले औद्योगिक और वैज्ञानिक अनुप्रयोगों में गैस की शुद्धता बनाए रखने के लिए एक भरोसेमंद और कुशल समाधान प्रदान करती है।

उत्पाद विशिष्टताएँ

सामग्री: GR1 टाइटेनियम पाउडर

बाहरी व्यास: 10.0 मिमी

भीतरी व्यास: 6.0 मिमी

ऊंचाई: 2.0 मिमी

छिद्र का आकार: 50-60um

प्रौद्योगिकी: सिंटरिंग

उत्पाद सुविधाएँ
Sintered Titanium Gas Purification Ring

 

 

एकीकृत सिंटेड निर्माण
उत्पाद एकल चरण धातु पाउडर सिंटरिंग प्रक्रिया के माध्यम से बनता है, जो एक त्रि-आयामी परस्पर जुड़े हुए छिद्रपूर्ण नेटवर्क का निर्माण करता है। इसके लिए किसी सहायक फ्रेम या बॉन्डिंग एजेंट की आवश्यकता नहीं होती है, जो द्वितीयक संदूषण के जोखिम को पूरी तरह समाप्त कर देता है।

 

 

उच्च-शुद्धता टाइटेनियम संरचना
बेहद कम अस्थिरता के साथ उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम पाउडर से निर्मित, उत्पादन प्रक्रिया में कोई गैर-धातु योजक शामिल नहीं होता है, जो संवेदनशील परिचालन वातावरण में पूर्ण सुरक्षा और सफाई सुनिश्चित करता है।

 

Porous Titanium Gas Purification Ring

 

समान छिद्र वितरण
आंतरिक छिद्र समान रूप से वितरित और पूरी तरह से परस्पर जुड़े हुए हैं, जो स्थिर प्रवाह प्रतिरोध और पूर्वानुमानित दबाव ड्रॉप प्रदान करते हैं। यह स्थिरता द्रव डिज़ाइन और सिस्टम प्रदर्शन में उच्च विश्वसनीयता प्रदान करती है।

 

लंबी अवधि की संरचनात्मक स्थिरता
निरंतर गैस प्रवाह के दौरान, वलय बिना कण बहाए या ढहे अपना आकार और सरंध्रता बनाए रखता है। यह स्थिरता विस्तारित सेवा अवधि में विश्वसनीय, निरंतर शुद्धिकरण प्रदर्शन को सक्षम बनाती है।

 

सिस्टम एकीकरण में आसानी
इसका रिंग आकार का विन्यास विभिन्न गैस लाइनों, सीलबंद कक्षों या यांत्रिक फिक्स्चर में आसानी से शामिल होने की अनुमति देता है। सरल इंस्टॉलेशन डिज़ाइन विविध इंजीनियरिंग प्रणालियों में अनुकूलनशीलता और दक्षता को बढ़ाता है।

अनुप्रयोग

सेमीकंडक्टर प्रक्रिया कक्षों में वातावरण प्रबंधन
सीवीडी और नक़्क़ाशी उपकरणों के भीतर परिवेशी गैसों से सक्रिय रूप से नमी और ऑक्सीजन को हटाता है, चिप निर्माण उपज और प्रदर्शन को बढ़ाने के लिए एक अति शुद्ध प्रसंस्करण वातावरण बनाए रखता है।

पतली फिल्म कोटिंग प्रणालियों के लिए गैस स्ट्रीम शोधन
ई-बीम वाष्पीकरण और स्पटरिंग उपकरण की गैस इनलेट लाइनों में एकीकृत, यह बेहतर कोटिंग एकरूपता, घनत्व और आसंजन की गारंटी के लिए इनलेट गैस शुद्धता को बढ़ाता है।

विश्लेषणात्मक इंस्ट्रुमेंटेशन के लिए अल्ट्रा-क्लीन कैरियर गैस कंडीशनिंग
जीसी और एमएस प्रणालियों में वाहक गैसों के लिए अंतिम शुद्धिकरण चरण के रूप में कार्य करता है, अधिकतम माप सटीकता और डेटा अखंडता सुनिश्चित करने के लिए पृष्ठभूमि हस्तक्षेप को समाप्त करता है।

परिशुद्ध वेल्डिंग अनुप्रयोगों में परिरक्षण गैस शुद्धिकरण
लेजर और ई-बीम वेल्डिंग में उपयोग किए जाने वाले आर्गन और अन्य परिरक्षण गैसों को शुद्ध करता है, दोषरहित, उच्च-अखंडता वेल्ड प्राप्त करने के लिए पिघले हुए पूल के उच्च-तापमान ऑक्सीकरण को रोकता है।

उन्नत अनुसंधान सेटअप में गैस गेट्टरिंग का पता लगाएं
आंतरिक घटकों से बाहर निकले गैस अणुओं को सोखने के लिए सिंक्रोट्रॉन और कण त्वरक प्रणालियों में तैनात, अत्यधिक उच्च वैक्यूम स्थितियों की प्राप्ति और संरक्षण में सहायता।

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