रासायनिक रिएक्टरों के लिए 0.45μm झरझरा टाइटेनियम ट्यूब गैस स्पार्गर
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रासायनिक रिएक्टरों के लिए 0.45μm झरझरा टाइटेनियम ट्यूब गैस स्पार्गर

रासायनिक रिएक्टरों के लिए 0.45μm झरझरा टाइटेनियम ट्यूब गैस स्पार्गर

सजातीय बुदबुदाहट के लिए समान सूक्ष्म छिद्र संरचना
उच्च गैस थ्रूपुट के साथ कम दबाव में गिरावट
एक्सट्रीम मीडिया के साथ पूर्ण अनुकूलता
थकान प्रतिरोध के साथ मजबूत सिंटर्ड निर्माण
संदूषण के बिना स्वच्छ निष्क्रिय सतह
आसान रख-रखाव के लिए प्लग-इन करें और मॉड्यूलरिटी चलाएं
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उत्पाद का परिचय

यह उत्पाद एक उच्च {{0}शुद्धता, परिशुद्धता {{1}सिन्डर्ड झरझरा टाइटेनियम गैस वितरण ट्यूब है, जो मांग वाले रासायनिक वातावरण में कुशल गैस {{2}तरल मिश्रण और बड़े पैमाने पर स्थानांतरण की महत्वपूर्ण आवश्यकता को पूरा करने के लिए इंजीनियर किया गया है। इसका मूल मूल्य सटीक रूप से नियंत्रित 0.45-माइक्रोन समान छिद्र संरचना में निहित है, जो निरंतर प्रक्रिया संचालन के लिए एक विश्वसनीय कोर घटक प्रदान करने के लिए गैस थ्रूपुट, वितरण समरूपता और यांत्रिक शक्ति को इष्टतम रूप से संतुलित करता है।

 

उन्नत रासायनिक संश्लेषण, फार्मास्युटिकल प्रसंस्करण और हाइड्रोमेटालर्जी के लिए डिज़ाइन किया गया यह घटक इन उद्योगों की गंभीर सेवा आवश्यकताओं को पूरा करता है। शुद्ध टाइटेनियम निर्माण अत्यधिक संक्षारक मीडिया के लिए असाधारण प्रतिरोध प्रदान करता है, जिसमें केंद्रित हाइड्रोक्लोरिक एसिड और क्लोराइड {{1}युक्त समाधानों को उबालना शामिल है। यह स्टेनलेस स्टील की गड्ढों के प्रति संवेदनशीलता और पॉलिमर आधारित घटकों की तापमान प्रतिरोध और उत्पाद संदूषण जोखिम की सीमाओं की सामान्य उद्योग चुनौतियों को प्रभावी ढंग से हल करता है। रिएक्टरों या वातन प्रणालियों के लिए एक मुख्य फैलाव तत्व के रूप में, यह न केवल प्रतिक्रिया गतिकी और चयनात्मकता को बढ़ाता है, बल्कि उपकरण संक्षारण विफलता से जुड़े डाउनटाइम और रखरखाव लागत को भी काफी कम कर देता है, जो प्रक्रिया गहनता और उत्पादन स्थिरता के लिए एक प्रमुख तकनीकी घटक के रूप में कार्य करता है।

उत्पाद विशिष्टताएँ

 

सामग्री: शुद्ध टाइटेनियम

व्यास: 150 मिमी

लंबाई: 100 मिमी

छिद्र का आकार: 0.45µm

तकनीक: सिंटरिंग

 

उत्पाद विवरण

सजातीय बुदबुदाहट के लिए समान सूक्ष्म छिद्र संरचना

सटीक रूप से नियंत्रित 0.45μm आइसोट्रोपिक छिद्र संरचना एक संकीर्ण आकार के वितरण के साथ माइक्रोबबल्स की पीढ़ी को सुनिश्चित करती है, जिससे चैनलिंग और बड़े बुलबुले का निर्माण समाप्त हो जाता है।

045m Titanium Gas Sparger for Chemical Reactors
045m Porous Titanium Gas Sparger for Chemical Reactors

उच्च गैस थ्रूपुट के साथ कम दबाव में गिरावट

अनुकूलित ट्यूबलर छिद्रपूर्ण डिज़ाइन न्यूनतम परिचालन दबाव हानि को बनाए रखते हुए, ऊर्जा की खपत को कम करने और उच्च गैस क्षमता का समर्थन करते हुए बढ़िया बुलबुला फैलाव प्राप्त करता है।

एक्सट्रीम मीडिया के साथ पूर्ण अनुकूलता

शुद्ध टाइटेनियम का अंतर्निहित संक्षारण प्रतिरोध पारंपरिक सामग्रियों की सीमा से अधिक, गर्म एसिड, क्लोराइड और ऑक्सीकरण एजेंटों सहित कठोर वातावरण में दीर्घकालिक स्थिरता को सक्षम बनाता है।

045m Porous Titanium Tube Gas Sparger for Chemical Reactors
045m Porous Titanium Tube Gas Sparger

थकान प्रतिरोध के साथ मजबूत सिंटर्ड निर्माण

सिंटरिंग के माध्यम से धातुकर्म से बंधी, ट्यूब उच्च यांत्रिक शक्ति और थर्मल शॉक प्रतिरोध प्रदान करती है, जो चक्रीय संचालन के तहत स्थायित्व में गैर-धात्विक या रेशेदार तत्वों से बेहतर प्रदर्शन करती है।

संदूषण के बिना स्वच्छ निष्क्रिय सतह

स्थिर निष्क्रिय ऑक्साइड परत आयन रिलीज और कण बहाव को रोकती है, जिससे यह उच्च {{1}शुद्धता संश्लेषण और बायोफार्मास्युटिकल अनुप्रयोगों जैसी संवेदनशील प्रक्रियाओं के लिए आदर्श बन जाती है।

045m Titanium Tube Gas Sparger for Chemical Reactors
Porous Titanium Tube Gas Sparger for Chemical Reactors

आसान रख-रखाव के लिए प्लग-इन करें और मॉड्यूलरिटी चलाएं

मानक ट्यूबलर ज्यामिति और इंटरफेस त्वरित एकीकरण, मॉड्यूलर स्केलिंग और इन-लाइन सर्विसिंग की अनुमति देते हैं, जिससे सिस्टम रखरखाव और परिचालन लचीलेपन में उल्लेखनीय सुधार होता है।

उत्पाद अनुप्रयोग

 

गैस-सतत प्रवाह माइक्रोरिएक्टर में तरल मिश्रण अनुभाग:एक इन-सीटू गैस फैलाव इकाई के रूप में कार्य करता है, जो निरंतर हाइड्रोजनीकरण, ऑक्सीकरण और कार्बोनिलेशन प्रक्रियाओं में बड़े पैमाने पर स्थानांतरण के लिए समान माइक्रोबबल वितरण और बेहतर इंटरफेशियल संपर्क को सक्षम बनाता है।

 

स्पेशलिटी गैस वेट स्क्रबिंग सिस्टम के लिए वितरण ट्यूब:स्क्रबिंग एजेंटों को बारीक बूंदों में सटीक रूप से फैलाता है, जिससे सेमीकंडक्टर और फाइबर ऑप्टिक्स विनिर्माण के लिए इलेक्ट्रॉनिक {{1} ग्रेड गैस शुद्धिकरण में पीपीबी- स्तर की अशुद्धता को दूर किया जा सकता है।

 

इलेक्ट्रोकेमिकल उन्नत ऑक्सीकरण रिएक्टरों में एनोड चैंबर:एक झरझरा, प्रवाहकीय अवरोधक के रूप में कार्य करता है जो इलेक्ट्रोड को गंदगी से बचाने के साथ-साथ अपशिष्ट जल उपचार की सुविधा प्रदान करता है, जो औद्योगिक अपशिष्ट प्रसंस्करण में सिस्टम सेवा जीवन को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ाता है।

 

निष्क्रिय वातावरण संरक्षण के लिए गतिशील गैस परदा जनरेटर:नियंत्रित लामिना प्रवाह उत्सर्जन के माध्यम से स्थिर, स्थानीय ऑक्सीजन मुक्त वातावरण बनाता है, संवेदनशील सामग्री प्रसंस्करण और उच्च परिशुद्धता वेल्डिंग के लिए ऊर्जा कुशल वातावरण अलगाव प्रदान करता है।

 

माइक्रोबियल किण्वकों के लिए ऑनलाइन गैस मॉनिटरिंग इंटरफ़ेस:तरल और माइक्रोबियल संदूषण के खिलाफ पूर्ण भौतिक बाधा प्रदान करते हुए विश्लेषणात्मक उपकरणों में गैसों के चयनात्मक प्रसार की अनुमति देकर वास्तविक {0}समय चयापचय गैस विश्लेषण को सक्षम बनाता है।

 

पतली फिल्म जमाव के लिए प्रीकर्सर वाष्प समरूपीकरण इकाई:एएलडी और सीवीडी प्रणालियों में पूर्ववर्ती वाष्पों का समान स्थानिक वितरण सुनिश्चित करता है, उन्नत कोटिंग अनुप्रयोगों में बड़े क्षेत्र सब्सट्रेट्स में लगातार फिल्म मोटाई और संरचना प्रदान करता है।

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